光源 | X射線 |
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重量 | 1640g |
品牌 | SHIMADZU/島津 |
型號 | PDA5000 |
加工定制 | 是 |
光電直讀光譜儀
產(chǎn)品技術(shù)方案
銷售技術(shù)經(jīng)理:劉汝飛 15162463043.
一、供貨內(nèi)容
1.1供貨清單1.1.1主機(jī)標(biāo)配清單
序號 | 配 置 | 數(shù)量 |
1 | 光電直讀光譜儀RWL-1001(真空型) | 1 |
2 | 分析程序(包含分析曲線、校準(zhǔn)樣品) | 2 |
3 | 分析通道 | 13 |
4 | RWL-1001專用軟件 | 1 |
5 | 標(biāo)準(zhǔn)備件 | 1 |
6 | 用戶技術(shù)文件(包含光盤、說明書等) | 1 |
1.1.2用戶委托選購清單
序號 | 配置 | 數(shù)量 |
1 | 計算機(jī) |
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2 | 打印機(jī) |
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3 | 穩(wěn)壓電源 |
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4 | 磨樣機(jī)(Fe基)/車床(有色) |
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2.2分析程序及漂移校正樣品:
序號 | 分析程序 | 漂移校正樣品(低標(biāo)) | 漂移校正樣品(高標(biāo)) | 備注 |
1 | 黃銅 | 依據(jù)生產(chǎn)調(diào)試需要設(shè)定 |
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2 | 紫銅 |
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| 分析程序總數(shù):2 |
備注:
? 所分析的基體元素的含量為總量扣除其它測量元素含量總和的差值(100%-∑測量元素);
? 每一條工作曲線均配置漂移校正樣品,當(dāng)所配置的校正曲線多于一條時,幾套校正曲線中重復(fù)出現(xiàn)的漂移校正樣塊只配置一塊;
? 常規(guī)校正僅對常規(guī)尺寸的樣品(直徑12-100mm,厚度2-100mm)有效。若要分析其它尺寸的樣品,需對校正曲線進(jìn)行修正;
? 為確保分析的整體正確度,客戶樣品中所有濃度范圍為0.3%或以上的元素必需配置在分析程序中。(儀器需考慮基體校正與干擾校正);
? 儀器工作曲線由北京瑞利分析儀器有限公司用國際或國標(biāo)樣品進(jìn)行繪制,對于用戶提出的特殊合金、元素及分析范圍,由用戶提供相關(guān)標(biāo)樣,瑞利公司免費繪制。
三、 技術(shù)參數(shù)
3.1光學(xué)系統(tǒng)
? 光柵焦距:998.8mm;
? 狹縫寬度:入射狹縫:20μm;出射狹縫:35-100μm;
? 光學(xué)結(jié)構(gòu):Paschen-Runge結(jié)構(gòu),羅蘭圓裝置;
? 光譜室采用結(jié)構(gòu)堅固、膨脹系數(shù)小的特殊鑄鐵材料;
? 光譜室采用防振設(shè)計;
? 真空型(真空度≤3Pa)、恒溫控制(35±0.1°C)的光學(xué)系統(tǒng);
? 譜線范圍:170-780nm(真空),190-780nm(空氣);
? 最多通道數(shù):48個;
? 凹面光柵:根據(jù)用戶分析需求選擇配置不同的刻劃光柵;
a. 刻線數(shù):2160gr/mm,色散率0.47nm/mm(1級);
b. 刻線數(shù):1080gr/mm,色散率0.93nm/mm(1級),0.47nm/mm(2級),0.31nm/mm(3級);
c. 刻線數(shù):1667gr/mm,色散率0.6nm/mm(1級),0.3nm/mm(2級),0.2nm/mm(3級)。
3.2激發(fā)光源系統(tǒng)
? 高能預(yù)火花技術(shù)(HEPS);
? 預(yù)燃、曝光頻率可變的火花,200Hz、400Hz;
? 針對不同材料,軟件控制可調(diào)的多種預(yù)燃條件和積分條件;
? 高重復(fù)單向低壓火花光源。
3.3火花臺
? 易于更換的火花臺蓋板;
? 最優(yōu)化的低氬氣流向設(shè)計,耗氬量:動態(tài)流量4L/Min;靜態(tài)流量0.5L/Min;
? 安全電路系統(tǒng)保護(hù)操作者和儀器,如果樣品臺門未關(guān)閉將不可能激發(fā)樣品;
? 特殊客戶,可提供小樣品激發(fā)夾具;
? 采用特殊的結(jié)構(gòu)設(shè)計,無須拆卸透鏡,直接通過專用工具進(jìn)行透鏡清洗,維護(hù)方便,再次使用時等待時間短;
? 樣品壓桿可以上下左右移動,實現(xiàn)快速更換樣品,適用于不規(guī)則型樣品。同時提供小樣品激發(fā)夾具;
? 采用激發(fā)快門測光方法,避免探測器產(chǎn)生眩光效應(yīng)。
3.4檢測及控制系統(tǒng)
? 基于FPGA的數(shù)據(jù)同步采集系統(tǒng),控制整個儀器的工作狀態(tài),并行實時監(jiān)控和診斷系統(tǒng)運行;
? 模擬濾波數(shù)字積分電路。所有通道具有16Bit的模數(shù)轉(zhuǎn)換器,采樣速率200Ksps,高集成度,高精度的電壓測量和控制;
? 信號讀出系統(tǒng),高壓回路使用RG-59B/U同軸電纜,信號輸出線使用RG-174/U同軸電纜;
? 負(fù)高壓可由分析程序控制。電壓調(diào)整率10ppm;溫度漂移25ppm/℃;
? 信號讀出高壓回路使用RG-59B/U同軸電纜,信號輸出線使用RG-174/U同軸電纜;
? 探測器:Φ13mm、Φ28mm,10級側(cè)窗型光電倍增管。
3.5分析軟件
? RWL-1000軟件包,配備工作曲線校準(zhǔn)模塊;
? 基于Windows系統(tǒng)的友好界面,全中文分析軟件;
? 自定義輸出統(tǒng)計結(jié)果:AVG、SD、RSD;
? 多模式輸出測試結(jié)果:絕對強(qiáng)度,相對強(qiáng)度,標(biāo)準(zhǔn)化后強(qiáng)度比,干擾校正后強(qiáng)度比,校正通道濃度值,實際濃度值,類型再校準(zhǔn)濃度值輸出;
? 全局標(biāo)準(zhǔn)化 局部標(biāo)準(zhǔn)化;
? 類型標(biāo)準(zhǔn)化;
? 監(jiān)控樣分析;
? 基體校正;
? 干擾元素的加合及倍增校正;
? 工作曲線的多項式擬合;
? 根據(jù)含量范圍自動選擇分析譜線;
? 自定義打印模版;
? 自動標(biāo)記超過工作曲線范圍的分析結(jié)果;
? 智能描跡功能,多元素可同時進(jìn)行描跡,智能判斷譜峰位置,可對多次描跡結(jié)果進(jìn)行比對,自動計算半峰寬;
? 自檢系統(tǒng):硬件參數(shù)自檢,燈曝光測試、暗電流測試等;
? 標(biāo)準(zhǔn)樣品數(shù)據(jù)庫。
3.6尺寸規(guī)格
? 尺寸大?。?800 X 1050 X 1245毫米 (長X寬X高);
? 重量:約500kg。